Tantal sputtering mål

Tantal (Ta) er et ildfast metal, der er kritisk for mikrochiparkitekturer i højvækst halvlederindustrien. Tantalmål med høj renhed bruges til at sputtere mikroskopiske tynde lag af tantal på siliciumwafers, hvilket muliggør fremstilling af næste generations halvlederlogikchips med avanceret nodearkitektur og højere ydeevne.

Tantal er klassificeret som et overgangsmetal i det periodiske system og anses for at være et af de mest korrosionsbestandige ildfaste metaller. Tantal har et smeltepunkt på 3.017 grader , en massefylde på 16,6 g/cc og et damptryk på 10-4 Torr ved 2.590 grader . Den har en metallisk grålig-blå farve og ligner kemisk overraskende niobium. På grund af dets ikke-toksiske natur bruges det primært til fremstilling af kirurgiske implantater. Den bruges også som kondensator i elektronik og kan legeres med andre metaller for øget styrke og holdbarhed. Tantal, dets legeringer og forbindelser fordampes under vakuum til fremstilling af halvledere, optiske belægninger, magnetiske lagringsmedier og slid- og korrosionsbestandige belægninger.

Topkvalitets metalprodukter

Tantal (Ta) specifikationer

Virksomheden blev grundlagt i 2008 og er vokset gennem årene til at blive en førende producent og leverandør af metalprodukter til en bred vifte af industrier. Virksomheden investerer løbende i forskning og udvikling for at forbedre kvaliteten og holdbarheden af ​​sine produkter. Virksomheden lægger stor vægt på kundetilfredshed og er kendt for at levere produkter af høj kvalitet og fremragende kundeservice. I dag har virksomheden en global tilstedeværelse og betjener kunder i lande over hele verden.

Populære tags: tantal sputtering mål, Kina tantal sputtering mål producenter, leverandører, fabrik