Titaniumplade til kemisk udstyr
Titaniumplade til kemisk udstyr er et materiale designet specielt til de barske arbejdsforhold i den kemiske industri. Da den kemiske proces ofte involverer stærke ætsende medier, højt tryk, høj temperatur og andre forhold, er titaniumplade, med dens unikke ydeevnefordele, blevet meget brugt på dette område.
Beskrivelse
Titan på en række ætsende medier såsom saltsyre, svovlsyre, salpetersyre, klor, brom samt en række organiske og uorganiske syrer har en meget høj modstandsdygtighed, langt mere end rustfrit stål og andre konventionelle metalmaterialer. Dette gør titaniumplade til et velegnet valg til fremstilling af kemisk udstyr såsom reaktorer, varmevekslere, tanke, rørsystemer osv., især ved håndtering af stærkt ætsende stoffer såsom halogenerede forbindelser, våd klorgas og hypoklorit. Selvom titanium har et relativt højt smeltepunkt, bevarer det gode mekaniske egenskaber og korrosionsbestandighed i mellemtemperaturområdet (især ved stuetemperatur op til omkring 450 grader), hvilket gør det velegnet til kemiske miljøer med medium, høj temperatur og højtryk. Titaniumplade kan arbejde stabilt i lang tid i højtrykssystemer, hvilket reducerer lækage og sikkerhedsulykker forårsaget af materialefejl.
Højt niveau af industriel titaniumpladeproduktionsteknologi
|
Grad
|
GR1
|
GR2
|
GR3
|
GR4
|
GR5
|
GR7
|
GR9
|
GR12
|
GR23
|
|
N( Mindre end eller lig med )
|
0.03
|
0.03
|
0.05
|
0.05
|
0.05
|
0.03
|
0.03
|
0.03
|
0.05
|
|
C( Mindre end eller lig med )
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
0.08
|
|
H( Mindre end eller lig med )
|
0.015
|
0.015
|
0.015
|
0.015
|
0.015
|
0.015
|
0.015
|
0.015
|
0.012
|
|
Fe (mindre end eller lig med)
|
0.2
|
0.3
|
0.3
|
0.2
|
0.4
|
0.3
|
0.25
|
0.3
|
0.25
|
|
O( Mindre end eller lig med )
|
0.18
|
0.25
|
0.35
|
0.4
|
0.2
|
0.25
|
0.15
|
0.25
|
0.13
|
|
Al( Mindre end eller lig med )
|
/
|
/
|
/
|
/
|
5.5~6.75
|
/
|
2.5~3.5
|
/
|
5.5~6.5
|
|
V( Mindre end eller lig med )
|
/
|
/
|
/
|
/
|
3.5~4.5
|
/
|
2.0~3.0
|
/
|
3.5~4.5
|
|
Pd( Mindre end eller lig med )
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
0.12~0.25
|
/
|
/
|
/
|
|
Mo (mindre end eller lig med )
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
0.2~0.4
|
/
|
|
Ni( Mindre end eller lig med )
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
/
|
0.6~0.9
|
/
|
|
Ti
|
bal
|
bal
|
bal
|
bal
|
bal
|
bal
|
bal
|
bal
|
bal
|
Ved produktion af kemiske produkter såsom klor-alkali, organisk syntese, finkemikalier, gødning, lægemidler og andre kemiske produkter, anvendes titaniumplade til fremstilling af nøglekomponenter, der kommer i kontakt med ætsende materialer, såsom klorkølere, saltsyresyntese tårne, phosphorsyre produktionsudstyr.
Stort lager af legeret titanium plader på lager
Meget pålideligt team, der leverer titaniummetalplader
Virksomheden har opnået iso9001:2015 kvalitetsstyringssystemcertificering, iso14001:2015 miljøledelsessystemcertificering, ISO 45001:2018 certificering af arbejdsmiljøledelsessystem, PED 2014/68/EU Pressure Equipment Directive-certificering, DNV-GL materialeproducentcertificering, SGS produktkvalitetscertificering og andre certifikater og kvalifikationer. Vi implementerer strengt GB/T 3639-2009, ASTM A519, DIN2391, JIS G3445 og andre nationale og internationale standarder for at sikre kvaliteten af vores produkter.
Populære tags: titanium plade til kemisk udstyr, Kina titanium plade til kemisk udstyr producenter, leverandører, fabrik
